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时间转眼而逝,初冬的京大已经感觉到寒冷,尤其是在一场小雨过后,寒意像针一样无孔不入。
今年的第一场雪,很快就要来了。
实验室外寒风习习,实验室内却温暖如春,华科院的八名研究生和曾泉此时内心更是一片火热。
他们早早等在实验室,看到陆隐进来急急迎了上去。
“陆工!”
“陆工!”
“陆工!”
“是今天吗!”
陆隐没说话,将身上的大衣脱下挂在架子上,神情凝重地扫向面前几人。
前几天他就说过,等数据计算无误,一切都准备齐全后,就可以开始对1nm光刻机雏形正式进行第一次试验。
“都跟我进来一下。”
陆隐走进办公室,打开了电脑,指着电脑上的草图和数据,对几人说道。
“不出意外,今天正式开始第一次实验,但在试验开始之前,这些数据我需要你们再继续验算一遍,数据无误,我今天就会申请关于材料,材料一到,即可开始着手准备。”
“是!明白!”
几人心中一阵亢奋,齐齐大喊。
随即几人快速将电脑上的草图和数据一份份拷贝下来,快速回到了自己的工位上,做好试验研发前的最后一项准备工作。
几人走后,陆隐却坐在电脑前出了神。
今日对1nm光刻机雏形进行第一次实验研发,是早就定好的事情,也是必要经过,但他心里总有些不安。
这次的实验过程,实在太过顺利了些,他总觉得缺少些什么,心里不踏实。
难道是过程太快?
陆隐闭目躺在椅子上,意识沉入脑海,在脑中一遍遍回想起关于1nm光刻机的各种程序和步骤。
光刻机的演进过程十分复杂,但它的核心只围绕着三个定律。
一是摩尔定律。
简单来说,整个世界都是由“0”和“1”组成,而在芯片里,表示“0”和“1”的基本元件就是晶体管,晶体管越多,芯片的运算速度就越快。
摩尔定律的意思就是说,同样大小的芯片,每隔两年里面的晶体管数量就会增加一倍,同理,性能也会增加一倍。
这就要求芯片制造得越来越精细,如今市面上的芯片已经进化到,要求两个器件之间,只能有几个纳米的距离了。
通常来说,造小的东西,核心思想就是放大,举个例子,像用机械的放大,就像杠杆这类的机械机构原理,但在纳米级精度上,机械的方法却又不够用了,所以就启用了“光”。
那么光又怎么放大?
其实很简单,投影!
像是我们日常生活中用到的投影仪,光刻机的核心就是造一个放大的,透光的模子,把想要的形状印在模子上,光通过模子照射在硅片上,这样就能制造出小尺寸的东西。
但因为技术瓶颈,这一项技术十年前就已经不用了。
目前世界上最先进的技术是“EUV”,这是郁金香国的ASML公司用二十年研发出来的。
说到这,就会引出第二个定律,瑞利判据。
总的来说,光刻机的研发是个极其复杂且精细的过程,哪怕一点点纳米级错误,哪怕是一粒灰尘,都会让整个研发毁于一旦!
另外还有存放光刻机的厂房,也必须是特殊材料制作,细节非常多,首先第一点,厂房的光必须要求是黄色。
原因就是光刻胶对短光明显,用黄色光对于晶圆制造来说就相当于把灯给关了,就像冲胶卷必须要在暗房中一样。
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